Diseño chileno camino a NY

Paula 1213. Sábado 19 de noviembre de 2016.

En un escenario en que moda y nuevas tecnologías están cada día más cerca, ya sea por los alcances en materia de corte, color y estampas, como en lo que respecta a la racionalización de los recursos (agua, por ejemplo) en las distintas etapas de los procesos, la sublimación está ocupando un lugar fundamental. En esa dirección, a principios de febrero se realizará la tercera edición Digital Couture Project–Epson New York Fashion Week 2017.

13 serán los diseñadores que mostrarán sobre una misma pasarela las posibilidades de la impresión digital por sublimación de tintas a través de cuatro outifits cada uno: ocho de América Latina, cuatro de Estados Unidos y Canadá y uno de Europa. Daniela Hoehmann (34), diseñadora de vestuario titulada en Inacap, fundadora de la marca Roberta (que se vende en Local 9F, en el Drugstore de Providencia), representará a Chile. Hoehmann, cuyas colecciones siempre han sido ricas en estampados, viene trabajando la sublimación desde los comienzos de su carrera. Su nombre fue elegido tras una convocatoria hecha por la filial chilena de Epson y que tuvo a otros tres postulantes. Tras la recepción de sus respectivos proyectos, y el análisis de un jurado compuesto por cinco representantes de la firma y uno de revista Paula, se determinó el ganador.

Tres bocetos preliminares de lo que Daniela Hoehmann mostrará en febrero en NY

"La sublimación ha sido fundamental para desarrollar mis ideas en el diseño. Fue a través de ella que conocí el mundo del estampado. Permite experimentar, desarrollar ideas e imprimir lo que se requiera para una prenda o toda una colección; desde uno hasta infinitos metros de tela, con colores que no se encuentran en el mercado nacional", dice Daniela.

Se esperan cerca de 1.000 asistentes a este encuentro de moda y tecnología, entre ellos 12 empresas textiles. Habrá, además, una gran exhibición de telas impresas con la técnica de sublimación y con impresión directa.